第二天，蔡晋睡醒之后，来到小工厂，查看光刻机的时候，数据已经发生了变化。

“系统，升级！”蔡晋毫不犹豫地选择了升级。

唰！

一道微光闪烁！

顿时，这台光刻机就发生了变化。

至少看起来,顺眼了很多。

相关的信息，蔡晋也就了解了。

这台光刻机，一下子从可以生产300nm，一下子提升到了150nm芯片水平。

不过，150nm芯片，依旧属于低端芯片，根本没有任何值得喜悦的。

蔡晋继续让光刻机运行着。

随后，他开始组装生产光刻胶的设备。

芯片发展有一个叫做摩尔定律的说法,每18~24个月，性能就会翻一倍。

而保持摩尔定律的基石之一就是光刻技术，每18~24个月，利用光刻工艺在集成电路板上所能形成最小图案的特征尺寸将缩小30%。

光刻胶，正是光刻工艺的核心材料，它可以与光线发生反应，让芯片材料上出现所需的精密电路图案。

光刻胶的质量和性能，会直接影响到集成电路制造过程中的优良率。

一句话概括就是，光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片性能越好。

而中国在半导体光刻胶方面，简直是惨不忍睹，国产市场占有率仅仅1%！

中国每年光刻胶的产量，已经达到了惊人的七万吨。

但这些产量只不过是一些初级产品罢了。

至于中高端产品，全部需要从境外购买，技术完全被境外封锁。

一种年使用量超过十万吨的重要耗材，居然全靠进口，说起来何等心酸。

想想，目前中国曝光机和光刻机数量庞大,就算遭到对手的打击，一时半刻没办法进口这两种机台，国内相关行业也还撑得住。

但是光刻胶不一样，那是每天都要大量消耗的耗材，一旦被断供，整个行业就会没有耗材可用。投资上千亿建起来的生产线，一旦光刻胶被别人卡脖子，就必须停产。

&
『加入书签，方便阅读』
-->> 本章未完，点击下一页继续阅读(第1页/共2页)